Истражувачите од Универзитетот во Калифорнија, Давис, дизајнирале нова маска за лице базирана на ткаенина што може да уништи до 99,99 отсто од бактериите, вирусите и другите патогени во рок од еден час од изложување на дневна светлина.

Истражувачите истакнале дека оваа маска може да се пере 10 пати и може континуирано да биде изложена на светлина најмалку една недела. Тоа нема да ја уништи нејзината антимикробна активност. Истражувањето е објавено во списанието „Еј-си-ес Аплајд материјалс енд интерфејсес“.

Методологија

Истражувачите сакале да дизајнираат нова памучна ткаенина што ќе ослободува реактивни видови кислород (ROS) кога ќе бидат изложени на дневна светлина, убивајќи микроби на површините на ткаенина, а истовремено ткаенината да може да се пере за повторно да се употреби. Истражувачите прикачиле позитивно наелектризирани 2-диетил аминоетил хлорид синџири на обичниот памук.

Покрај тоа, истражувачите забележале дека луѓето можат да ја дезинфицираат својата маска за време на ручекот надвор на сонцето или поминувајќи подолго време под канцелариските светла што се помалку интензивни од сончевата светлина.

Резултатите

Истражувачкиот тим открил дека фотосензибилизаторот уништил 99,99 отсто од бактериите во ткаенината во рок од еден час од изложувањето на дневна светлина и инактивирал 99,99 отсто од Т7 бактериофагот - вирус што се смета дека е поотпорен на ROS отколку други коронавируси, и тоа го направил во рок од половина час.

- Ткаенината дава ветувачки резултати во производството на повеќекратни, антибактериски или антивирусни платнени маски за лице и заштитни костими - велат истражувачите.